可以濺射各種金屬的實(shí)驗(yàn)室沉積裝置MSP-40T介紹

它是一種多功能型號(hào)，可以濺射各種金屬穩定性，包括流行的鎢最深厚的底氣。 它用于從表面觀察到實(shí)驗(yàn)應(yīng)用的廣泛領(lǐng)域。 高純度真空區(qū)域?qū)τ谥苽涞臉悠分陵P(guān)重要資源優勢。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺應用擴展。

裝置	特征	目標(biāo)金屬
	MSP-40T 是一種多用途的實(shí)驗(yàn)室沉積裝置。 新型號(hào)配備了全自動(dòng)薄膜沉積功能振奮起來。 高效的薄膜沉積建立和完善，排氣速度快，操作簡單前景。 各種金屬薄膜可以通過強(qiáng)磁場沉積經驗。 渦輪泵和隔膜泵可實(shí)現(xiàn)清潔和高真空。 是一款性價(jià)比低廉的設(shè)備長效機製。 薄膜沉積靶材：金進一步意見、銀、鉑等地、金-鈀產業、鈀、銅共享應用、鉻良好、鈀、鎳增強、鐵倍增效應、鎢、鉬戰略布局、鉬重要意義、鈦規則製定、鋁、ITO等 引領。 對于未列出的目標(biāo)表現明顯更佳，請聯(lián)系我們。

用于復(fù)雜形狀樣品和超高放大倍率觀察

對于形狀復(fù)雜且超高放大倍率觀察200優化服務策略，000倍或以上的樣品技術先進，請考慮具有出色環(huán)繞性和細(xì)顆粒的鋨鍍膜機(jī)。

Os：鋨
由于它被包覆在氣體氣氛中技術節能，因此可以很好地包裹樣品提高，并且粒徑非常小。
主要用于涂覆生物樣品和具有三維結(jié)構(gòu)的樣品延伸。

W：鎢
顆粒體系與鋨相當(dāng)開展攻關合作，但由于薄膜沉積方法的差異，其環(huán)繞性不如鋨鍍膜機(jī)。