大明化學(xué)高純氧化鋁粉：賦能產(chǎn)業(yè)，驅(qū)動(dòng)未來(lái)創(chuàng)新

在全球科技高速發(fā)展的浪潮下高效利用，陶瓷體驗區、電子、生物醫(yī)學(xué)品質、光學(xué)等領(lǐng)域的材料需求正朝著高純度提供了遵循、精細(xì)化、功能化的方向跨越式升級(jí)能運用。作為高性能材料的關(guān)鍵基礎(chǔ)原料利用好，氧化鋁粉的純度與性能直接決定了終端產(chǎn)品的技術(shù)高度。大明化學(xué)依托30年材料研發(fā)積淀講理論，以99.99%超高純度氧化鋁粉為核心有望，推出覆蓋全場(chǎng)景應(yīng)用的解決方案，助力企業(yè)突破技術(shù)邊界解決問題，搶占市場(chǎng)先機(jī)服務效率。

一、行業(yè)痛點(diǎn)與大明化學(xué)的突破性解決方案

1. 電子行業(yè)：微型化與高頻化的材料革命

• 需求趨勢(shì)：5G通信導向作用、半導(dǎo)體封裝對(duì)陶瓷基板的介電損耗蓬勃發展、熱導(dǎo)率要求嚴(yán)苛，需納米級(jí)（50-200nm）氧化鋁粉實(shí)現(xiàn)精密電路布線重要意義。

• 大明優(yōu)勢(shì)：

• 純度≥99.995%問題，鈉、鐵雜質(zhì)含量低于1ppm情況，確保高頻信號(hào)穩(wěn)定性交流等；

• 粒徑分布CV值<10%，實(shí)現(xiàn)基板燒結(jié)零孔隙發展目標奮鬥；

• 定制化表面改性技術(shù)自動化裝置，兼容銀漿狀態、銅漿等電極材料。

應(yīng)用案例：某頭部半導(dǎo)體企業(yè)采用大明α相氧化鋁粉后關規定，陶瓷基板熱導(dǎo)率提升至28W/m·K更多的合作機會，良品率提高15%。

2. 生物醫(yī)學(xué)：從惰性載體到活性賦能

• 需求趨勢(shì)：骨科植入物要求氧化鋁兼具生物相容性與抗磨損性指導，多孔結(jié)構(gòu)需精確控制孔徑（100-500μm）可以使用。

• 大明創(chuàng)新：

• 3D打印級(jí)球形粉體，流動(dòng)性優(yōu)異關註點，支持SLS/SLM成型廣泛認同；

• 梯度孔徑設(shè)計(jì)技術(shù)，孔隙率30-70%可調(diào)建強保護，促進(jìn)骨細(xì)胞長(zhǎng)入服務好；

• 通過(guò)ISO 13485醫(yī)療認(rèn)證，重金屬殘留低于0.001%流動性。

技術(shù)突破：與上海某三甲醫(yī)院合作開(kāi)發(fā)的仿生關(guān)節(jié)涂層效高化，磨損率降低至傳統(tǒng)材料的1/3。

3. 光學(xué)領(lǐng)域：透明陶瓷的極限挑戰(zhàn)

• 需求趨勢(shì)：激光器窗口反應能力、導(dǎo)整流罩需氧化鋁透光率>85%部署安排，晶界純度決定光學(xué)均勻性。

• 大明方案：

• 高燒結(jié)活性γ相粉體投入力度，1650℃真空燒結(jié)密度達(dá)3.98g/cm3效果；

• 創(chuàng)新?lián)诫s釔/鎂元素，晶粒尺寸控制在0.5-1μm技術，散射損耗降低60%逐漸完善；

• 全流程無(wú)塵生產(chǎn)，杜絕微氣泡缺陷有所提升。

實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)：大明透明陶瓷片在1064nm波長(zhǎng)下透光率達(dá)89.2%，躋身國(guó)際一線水平參與能力。

4. 陶瓷：從工業(yè)耐磨到航天級(jí)應(yīng)用

• 需求趨勢(shì)：航天器熱防護(hù)涂層需耐受2000℃等離子沖刷法治力量，粉體純度與形貌是關(guān)鍵。

• 大明技術(shù)：

• 等離子體球化工藝應用擴展，制備近球形粉體（球形度>95%）過程中；

• 耐高溫涂層專(zhuān)用粉體，熱震循環(huán)次數(shù)超1000次建立和完善；

• 提供從微米級(jí)到亞微米級(jí)全系列產(chǎn)品特征更加明顯，適配噴涂/燒結(jié)工藝。

二啟用、大明化學(xué)的四大核心競(jìng)爭(zhēng)力

1. 純度天花板：
   采用改良拜耳法+多層電磁提純，純度穩(wěn)定達(dá)99.99%-99.9995%，雜質(zhì)控制精度達(dá)ppb級(jí)。

2. 粒度精準(zhǔn)調(diào)控：
   超音速氣流粉碎+動(dòng)態(tài)分級(jí)技術(shù)達到，支持從20nm到50μm定制深入各系統，滿足CMP拋光、流延成型等差異化需求的可能性。

3. 綠色智造體系：
   全封閉生產(chǎn)工藝進一步推進，廢水無(wú)排放，碳足跡較傳統(tǒng)工藝降低40%系列，獲歐盟REACH明確相關要求、RoHS認(rèn)證。

代表性值

*1：從SEM照片中測(cè)量 *2：?jiǎn)屋S壓制成型（98MPA）
*3：1250℃ *4：1350℃ *5：1400℃（每個(gè)射擊1小時(shí)）

代表性值