您是否正在尋找便宜且簡(jiǎn)單的濺射設(shè)備？

MSP-Mini僅使用一個(gè)按鈕自動(dòng)涂覆高品質。這是一種具有出色成本性能的設(shè)備。
該目標(biāo)是一種消耗量的互動講，使用尺寸較袆撔履芰?。é?2mm），使運(yùn)行成本較低主動性。

AU目標(biāo)作為標(biāo)準(zhǔn)發展。它證明了其對(duì)低磁化觀測(cè)臺(tái)SEMS進(jìn)行預(yù)處理的能力。
可選的AG膜具有出色的光澤範圍，并且可以輕松觀察光學(xué)顯微鏡下透明材料的表面效果。

小型磁控濺射裝置 MSP-MINI 核心優(yōu)勢(shì)

1. 緊湊設(shè)計(jì)，空間利用率高

• 體積小巧，占地面積僅為傳統(tǒng)設(shè)備的1/3溝通機製，適配高校實(shí)驗(yàn)室、科研院所或小型企業(yè)等空間有限的環(huán)境體系。

• 一體化集成設(shè)計(jì)宣講活動，減少外接組件需求，安裝靈活註入新的動力，輕松融入現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)平臺(tái)快速融入。

2. 操作簡(jiǎn)便，快速上手

• 配備智能觸控界面工藝技術，參數(shù)設(shè)置直觀清晰發揮作用，無(wú)需復(fù)雜培訓(xùn)即可獨(dú)立操作。

• 全自動(dòng)真空控制系統(tǒng)系統，一鍵啟動(dòng)鍍膜流程十分落實，顯著降低人為操作誤差。

• 支持多組工藝參數(shù)存儲(chǔ)逐步顯現，實(shí)驗(yàn)條件快速切換作用，提升研發(fā)效率。

3. 高性?xún)r(jià)比，低使用成本

• 相比大型設(shè)備銘記囑托，采購(gòu)成本降低50%以上事關全面，適合預(yù)算有限的用戶(hù)。

• 功耗低（<2kW）製造業，靶材利用率高發展目標奮鬥，維護(hù)成本可控，長(zhǎng)期使用經(jīng)濟(jì)性顯著狀態。

• 模塊化設(shè)計(jì)規劃，關(guān)鍵部件可單獨(dú)更換，避免整機(jī)維修的高昂費(fèi)用初步建立。

4. 穩(wěn)定鍍膜方案，性能優(yōu)異

• 磁控濺射工藝成熟，膜層均勻性達(dá)±5%以?xún)?nèi)同時，致密性好實施體系，附著力強(qiáng)。

• 支持多種靶材（金屬幅度、合金技術創新、氧化物等），滿(mǎn)足導(dǎo)電膜各有優勢、光學(xué)膜技術發展、防腐涂層等多樣化需求。

• 基片兼容性強(qiáng)資料，可處理直徑≤4英寸的樣品自動化，適用于微納器件、傳感器等小型化產(chǎn)品集成。

5. 安全可靠規模最大，綠色環(huán)保

• 多重安全防護(hù)機(jī)制：真空異常報(bào)警、過(guò)流保護(hù)、防濺射短路設(shè)計(jì)重要手段，保障實(shí)驗(yàn)安全。

• 封閉式濺射腔體橫向協同，有效防止粉塵和氣體泄漏不折不扣，符合實(shí)驗(yàn)室環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

6. 科研與教學(xué)雙重適配

• 為材料科學(xué)穩定性、電子工程等學(xué)科提供實(shí)踐平臺(tái)最深厚的底氣，助力學(xué)生理解鍍膜技術(shù)原理。

• 支持小批量試生產(chǎn)資源優勢，幫助初創(chuàng)企業(yè)快速驗(yàn)證工藝應用擴展，縮短研發(fā)周期飛躍。

7. 擴(kuò)展靈活，升級(jí)無(wú)憂(yōu)

• 可選配射頻電源積極、加熱基片臺(tái)等模塊，拓展功能至絕緣材料鍍膜或高溫成膜前景。

• 提供定制化服務(wù)經驗，根據(jù)需求調(diào)整腔體尺寸或靶位數(shù)量。

應(yīng)用場(chǎng)景示例

? 高校實(shí)驗(yàn)室：薄膜制備教學(xué)保障性、新材料研發(fā)
? 企業(yè)研發(fā)中心：電子元件表面改性不斷進步、光學(xué)器件鍍膜
? 創(chuàng)客工坊：微型傳感器、柔性電子器件開(kāi)發(fā)

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