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電子顯微鏡樣品導電薄膜制造裝置-鋨等離子體鍍膜機

發(fā)布時間:2024-12-25 點擊量:531

電子顯微鏡樣品導電薄膜制造裝置-鋨等離子體鍍膜機

用鋨離子鍍膜
機電鏡觀察  解決您的難題集成技術!
 它對于防止充電新創新即將到來、減少顆粒感和熱損傷非常有效。




 概述



鋨等離子鍍膜機是一種主要用于SEM樣品的導電薄膜生產(chǎn)裝置創新的技術,采用“使用直流輝光放電的負輝光相區(qū)域的等離子成膜方法"設計能力。導電鋨薄膜可以使用獲得的直流等離子體CVD方法形成(在負輝光相區(qū)域內成膜)。自動操作允許任何人安全地沉積鋨薄膜并具有良好的再現(xiàn)性至關重要。

該產(chǎn)品陣容包括鋨薄膜專用型號和配備使用萘的等離子聚合膜機構的兩用型號質量。可選配超薄膜形成機構表示、親水處理機構不久前、深樣品機構,支持各種應用質生產力。
此外機構,除了傳統(tǒng)的開關型外,鋨薄膜型號的產(chǎn)品陣容中還新增了觸摸屏型背景下。



 原則



 


對于要用掃描電子顯微鏡(SEM)拍照的樣品多種場景,必須在樣品表面形成導電薄膜科技實力,以防止其因電子束照射而帶電開展試點。
傳統(tǒng)上,導電薄膜是使用濺射或金氣相沉積方法形成的可靠保障。然而規劃,人們擔心樣品表面的顆粒度以及樣品熱損傷造成的損壞。
因此共同,Philgen 開發(fā)了鋨等離子體鍍膜機發展,這是一種可以利用直流等離子體 CVD(負輝光相區(qū)域成膜)方法形成導電鋨薄膜的設備。
當將少量4氧化鋨(OsO4)氣體/萘氣體(C10H18)引入真空室中并發(fā)生輝光放電時,瞬間變成等離子體狀態(tài)推進一步,分為正輝光相區(qū)和負輝光相區(qū)探索創新。
此時,電離的分子立即附著并沉積在置于陰極板負輝相區(qū)域的樣品表面上帶動擴大,形成非晶態(tài)鋨薄膜/等離子體聚合膜(萘)前來體驗。
鋨薄膜是非晶態(tài)的,因此不會對樣品造成熱損傷實現了超越,并且當用SEM對涂層樣品進行拍照時發揮重要帶動作用,可以獲得極其清晰的圖像,沒有顆粒感確定性。



 與其他方法的比較



◆關于鋨薄膜


?無粒度 - 人類淋巴細胞

鋨涂層


放大倍數(shù):50,000x
濺射鍍膜 (Pt-Pd)


放大倍數(shù):50,000x
 由于鋨薄膜是非晶態(tài)的明確了方向,沒有顆粒感,可以清晰地拍攝樣品表面意料之外。
 濺射涂層樣品顯示出顆粒狀必然趨勢。

? 良好的環(huán)繞性 - 抗破洞

鋨涂層


放大倍數(shù):50,000x
非拍攝


放大倍率:50,000x
 通過將氧化鋨氣化后成膜,即使是凹凸區(qū)域精準調控,也能夠以良好的覆蓋率進行涂敷應用優勢。
 無需充電即可拍攝清晰的照片。

?無熱損傷-硝酸安

鋨涂層




放大倍數(shù):1,000x
金沉積法




放大倍數(shù):2,000x
 沒有加熱的過程信息化,可以在室溫下成膜發展需要,因此對樣品沒有熱損傷。
 經(jīng)過金蒸發(fā)預處理的樣品因熱損傷而出現(xiàn)裂紋全方位。 ?金屬鋨的熔點  高達2,700℃信息,

不會被電子束損壞,是一種極其堅固的薄膜管理。 ?無污染(在鋨離子氣氛中形成的膜)




◆關于等離子聚合膜(萘制碳氫化合物膜)


?韌性(應用于FIB)
 這是一種堅韌的膜廣泛關註,可以承受FIB中使用的鎵離子。

?耐熱性?

絕緣性

?無顆粒感(碳氫化合物等離子聚合膜是無定形的)

?良好的包裹性(萘氣化后形成膜)

?無熱損傷(無加熱過程,(在室溫下形成膜)

?無電子束損傷



 應用



鋨薄膜機構(觸摸屏型/開關型)
?SEM樣品用導電薄膜
?SEM顯示、TEM樣品的防污染?AFM
樣品保護膜
?SPM樣品用導電保護膜
?SPM懸臂膜保護
等離子聚合成膜機理
?FIB樣品的保護膜?
防止包埋樹脂與樣品之間的剝離?
氟樹脂涂層
 (
萘-鋨混合涂層
?TEM網(wǎng)格支撐膜
?TEM超薄切片的防漂移
導電超薄膜形成機制(可選)
?FESEM對絕緣體超細結構觀察
?ESCA和AES對絕緣體 表面信息進行定量分析 加固?AFM樣品的防靜電?STM
?TEM樣品的導電 (僅限混合氣體法)


親水處理機制(可選)
?
氟樹脂表面鋨涂層預處理等?
防止包埋樹脂與樣品之間剝離?改善
潤濕性
?TEM支撐膜表面親水化?TEM
網(wǎng)格親水化?
金剛石刀刀刃超親水化用于切片機
深樣品機構(可選)
?適合涂覆較高的樣品



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