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18922517093半導(dǎo)體、電子行業(yè)噴涂用二流體噴嘴的要求
工業(yè)噴霧噴嘴在電子行業(yè)有著廣泛的應(yīng)用薄弱點，可應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程上高質量，硅晶片制造工序，等離子體顯示器制造效高、電子顯像管建設應用、以及印制電路板的制作（PCB）中，顯影廣度和深度、蝕刻應用的因素之一、沖刷、除膜日漸深入、噴涂等眾多工序奮勇向前。同時還能用于消除靜電，保障電子行業(yè)生產(chǎn)順利進(jìn)行預期，是電子行業(yè)中不可缺重要裝置聽得進。
光刻膠，是一種對光敏感的化學(xué)物質(zhì)合理需求。它是由光敏樹脂全技術方案、增感劑、溶劑三種主要成分組成先進水平。經(jīng)曝光之后重要的，膠會產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，從而導(dǎo)致溶解度發(fā)生變化搶抓機遇。利用這種性質(zhì)綠色化發展，通過帶有特定圖形的掩膜就可以在基板上得到特定的圖形去創新。我們首先將光刻膠涂覆到半導(dǎo)體材料上結論，經(jīng)過曝光顯影后，留下的光刻膠部分相當(dāng)于對底層進(jìn)行保護(hù)體系，之后用蝕刻劑進(jìn)行蝕刻足夠的實力，最終達(dá)到將掩膜版上特定的微細(xì)圖形轉(zhuǎn)移到襯底上的目的，因此光刻膠是微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性材料提高。
如何將光刻膠均勻且符合工藝要求的涂覆到襯底表面全面闡釋，也是非常關(guān)鍵的課題。目前涂覆工藝有旋涂結構、浸涂以及超聲波噴涂等工藝適應性強。旋涂，也就是離心旋轉(zhuǎn)法競爭力所在，是將一定量的光刻膠溶液滴在基材表面能力建設，隨后通過離心力的作用將膠鋪展到基片上高效，此種方法可以得到厚度均勻的光刻膠薄膜，但普遍存在膜厚偏薄且厚度范圍調(diào)節(jié)不穩(wěn)定的問題基礎。而且采用離心旋轉(zhuǎn)法涂膠領域，在旋轉(zhuǎn)過程中基片上多余的光刻膠被甩出，造成光刻膠浪費要素配置改革。而浸涂法，雖然操作方便效率高且涂料利用率也比較高，但只適用于形狀簡單的流線型材料無障礙，而且涂料量不好控制體系。
Atmax噴嘴是獲得的“外混合渦流式緊湊型精密二流體噴嘴"，非常適合霧化液體經驗分享。
高速旋流將液體高效粉碎霧化成霧化噴霧探討。液滴尺寸分布也非常好。噴嘴內(nèi)部結(jié)構(gòu)非常簡單培養，大直徑可以穩(wěn)定連續(xù)噴射共創美好，不會堵塞。為了獲得霧化液體高效流通，人們一直認(rèn)為液體應(yīng)該通過微小的孔噴射出來預判，但Atmax噴嘴是一個源自想法的原創(chuàng)產(chǎn)品。
還可以噴涂以前難以霧化的粘性液體有力扭轉、漿料和乳液調解製度。
由于是外置混合噴嘴，因此噴嘴內(nèi)部不存在液體堵塞的可能性形式。
液體流路具有簡單的直線結(jié)構(gòu)覆蓋範圍。
與傳統(tǒng)噴嘴相比，噴霧孔徑更大（約10至200倍）功能。
即使在低壓下也能進(jìn)行噴霧操作前沿技術，因此不會滴落或滴落。
即使噴射直徑很大積極性，也可以噴射出細(xì)小的顆粒深入交流。渦流霧化提供非常均勻的顆粒尺寸。
可以用單個噴嘴控制噴射的顆粒從相當(dāng)于5微米到雨滴大小性能。
該噴嘴也非常適合多種液體的混合噴涂動力。液體供應(yīng)通過管道分別輸送到噴嘴附近，從而可以在噴嘴噴射部分進(jìn)行混合噴射方案。當(dāng)由于液體的性質(zhì)而無法預(yù)先攪拌和混合時多種方式，它是有效的。
由于部件配置簡單實施體系，噴嘴可以根據(jù)使用環(huán)境和耐化學(xué)性采用特殊材料制造臺上與臺下。我們可以選擇和制造耐熱集成技術、耐腐蝕、耐磨材料生產效率。
由于單噴嘴的噴射控制自由度較大創新的技術，因此噴射條件的設(shè)定相對容易。通過控制供應(yīng)的液體量和霧化氣體的流速更合理，可以實現(xiàn)所需的噴射設(shè)置有序推進。
噴嘴尺寸極小，因此可以安裝在任何地方表示。
由于重量輕，因此可以輕松安裝在設(shè)備中緊迫性。噴嘴可以使用注射口附近的安裝螺釘和螺母固定質生產力。
只有兩個部件，因此易于安裝和拆卸非常激烈，維護(hù)簡單提升行動。
我們的技術(shù)可實現(xiàn)高效的霧化噴涂。與傳統(tǒng)噴嘴相比技術交流，霧化消耗的壓縮氣體更少交流。
由于噴嘴具有自吸功能，無需泵即可噴射低粘度液體關註。
通過微量精密噴霧溝通協調，即可獲得平均粒徑約5μm的超細(xì)顆粒。它有一個非常小的噴嘴提供堅實支撐，可以與20-750瓦的空氣壓縮機(jī)一起運行活動。主要用途包括表面薄膜涂層、科學(xué)和醫(yī)療領(lǐng)域的極微量噴涂以及房間和各種設(shè)施的滅菌和消毒創造更多。
AM6和12型適合以極低的流量噴射細(xì)顆粒還不大。壓縮氣體流量也比傳統(tǒng)噴嘴小。主要應(yīng)用包括半導(dǎo)體晶圓精密噴涂開展、電子元件及功能材料制造過程中的薄膜形成帶動擴大、噴涂前來體驗、鍍膜等簡單化。
基本結(jié)構(gòu)與AM型相同，但噴嘴具有更大的噴霧流量發揮重要帶動作用。
應(yīng)用包括成型工藝開拓創新、高粘度液體涂層、噴霧干燥機(jī)噴嘴明確了方向、在食品上噴灑調(diào)味液以及重油和工廠廢油的高溫燃燒去完善。
Atmax噴嘴BN型雖然具有φ2.0～φ6.0mm的大液體噴射孔徑意料之外，但能夠進(jìn)行極其穩(wěn)定的噴霧。它適用于大噴霧流量的工作設備，并且具有作為批量生產(chǎn)設(shè)備的噴嘴頭使用的良好記錄精準調控。生產(chǎn)線上有噴涂工序、陶瓷上釉建設應用、壓鑄制造過程中的脫模劑噴涂盒優化程度、廢氣凈化設(shè)備的噴嘴頭等。該噴嘴能夠連續(xù)運轉(zhuǎn)而不會堵塞應用的因素之一，并且能夠霧化大量的處理液基礎。
該噴嘴專為適用于生產(chǎn)線和工廠中的大流量噴涂而開發(fā)。噴霧直徑大奮勇向前，可將粘度1000cp以下的低粘度液體燃燒至汽油引領作用、煤油、重油經驗、汽車傳動廢油、食用廢油等高粘度易燃廢油以及油脂液體和固體相當(dāng)于10,000cp的粉末，可用于霧化所混合的漿料等液體敢於監督。
Atomax噴嘴CNP型具有φ3.5～φ5.6mm的超大液體直徑大局，即使是高粘度液體也能霧化，不會堵塞數據、下垂或滴落效率和安。所有零部件均由金屬制成，耐化學(xué)腐蝕邁出了重要的一步，適合在高溫環(huán)境下連續(xù)運行產能提升。 CNW有兩個供液口，可以將兩種不同類型的液體分別供給到噴嘴品牌，然后在噴嘴噴射口處混合噴射適應能力。根據(jù)工作條件，可以在不需要預(yù)先進(jìn)行液體混合的情況下進(jìn)行工作節點。
