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半導(dǎo)體至關重要、電子行業(yè)噴涂用二流體噴嘴的要求
工業(yè)噴霧噴嘴在電子行業(yè)有著廣泛的應(yīng)用質量,可應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過(guò)程,硅晶片制造工序表示,等離子體顯示器制造數字技術、電子顯像管、以及印制電路板的制作(PCB)中,顯影完成的事情、蝕刻調整推進、沖刷、除膜研究成果、噴涂等眾多工序發展契機。同時(shí)還能用于消除靜電,保障電子行業(yè)生產(chǎn)順利進(jìn)行機製性梗阻,是電子行業(yè)中不可缺重要裝置齊全。
光刻膠,是一種對(duì)光敏感的化學(xué)物質(zhì)改造層面。它是由光敏樹(shù)脂機製、增感劑、溶劑三種主要成分組成大面積。經(jīng)曝光之后發力,膠會(huì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),從而導(dǎo)致溶解度發(fā)生變化集成應用。利用這種性質(zhì)越來越重要的位置,通過(guò)帶有特定圖形的掩膜就可以在基板上得到特定的圖形。我們首先將光刻膠涂覆到半導(dǎo)體材料上迎來新的篇章,經(jīng)過(guò)曝光顯影后解決方案,留下的光刻膠部分相當(dāng)于對(duì)底層進(jìn)行保護(hù),之后用蝕刻劑進(jìn)行蝕刻共同學習,最終達(dá)到將掩膜版上特定的微細(xì)圖形轉(zhuǎn)移到襯底上的目的交流研討,因此光刻膠是微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性材料。
如何將光刻膠均勻且符合工藝要求的涂覆到襯底表面,也是非常關(guān)鍵的課題順滑地配合。目前涂覆工藝有旋涂、浸涂以及超聲波噴涂等工藝空白區。旋涂貢獻法治,也就是離心旋轉(zhuǎn)法,是將一定量的光刻膠溶液滴在基材表面應用優勢,隨后通過(guò)離心力的作用將膠鋪展到基片上相對較高,此種方法可以得到厚度均勻的光刻膠薄膜,但普遍存在膜厚偏薄且厚度范圍調(diào)節(jié)不穩(wěn)定的問(wèn)題服務。而且采用離心旋轉(zhuǎn)法涂膠實現,在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中基片上多余的光刻膠被甩出,造成光刻膠浪費(fèi)舉行。而浸涂法,雖然操作方便效率高且涂料利用率也比較高不容忽視,但只適用于形狀簡(jiǎn)單的流線(xiàn)型材料,而且涂料量不好控制記得牢。
Atmax噴嘴是獲得的“外混合渦流式緊湊型精密二流體噴嘴"組建,非常適合霧化液體。
高速旋流將液體高效粉碎霧化成霧化噴霧服務體系。液滴尺寸分布也非常好進展情況。噴嘴內(nèi)部結(jié)構(gòu)非常簡(jiǎn)單,大直徑可以穩(wěn)定連續(xù)噴射特點,不會(huì)堵塞研究。為了獲得霧化液體,人們一直認(rèn)為液體應(yīng)該通過(guò)微小的孔噴射出來(lái)綠色化發展,但Atmax噴嘴是一個(gè)源自想法的原創(chuàng)產(chǎn)品去創新。
還可以噴涂以前難以霧化的粘性液體、漿料和乳液應用創新。
由于是外置混合噴嘴體系,因此噴嘴內(nèi)部不存在液體堵塞的可能性。
液體流路具有簡(jiǎn)單的直線(xiàn)結(jié)構(gòu)慢體驗。
與傳統(tǒng)噴嘴相比深化涉外,噴霧孔徑更大(約10至200倍)。
即使在低壓下也能進(jìn)行噴霧操作左右,因此不會(huì)滴落或滴落。
即使噴射直徑很大智能化,也可以噴射出細(xì)小的顆粒生產製造。渦流霧化提供非常均勻的顆粒尺寸。
可以用單個(gè)噴嘴控制噴射的顆粒從相當(dāng)于5微米到雨滴大小綜合措施。
該噴嘴也非常適合多種液體的混合噴涂多元化服務體系。液體供應(yīng)通過(guò)管道分別輸送到噴嘴附近,從而可以在噴嘴噴射部分進(jìn)行混合噴射攜手共進。當(dāng)由于液體的性質(zhì)而無(wú)法預(yù)先攪拌和混合時(shí)實力增強,它是有效的。
由于部件配置簡(jiǎn)單促進進步,噴嘴可以根據(jù)使用環(huán)境和耐化學(xué)性采用特殊材料制造供給。我們可以選擇和制造耐熱、耐腐蝕更高要求、耐磨材料積極參與。
由于單噴嘴的噴射控制自由度較大,因此噴射條件的設(shè)定相對(duì)容易經驗分享。通過(guò)控制供應(yīng)的液體量和霧化氣體的流速探討,可以實(shí)現(xiàn)所需的噴射設(shè)置新技術。
噴嘴尺寸極小共創美好,因此可以安裝在任何地方趨勢。
由于重量輕,因此可以輕松安裝在設(shè)備中預判。噴嘴可以使用注射口附近的安裝螺釘和螺母固定。
只有兩個(gè)部件,因此易于安裝和拆卸合規意識,維護(hù)簡(jiǎn)單聽得懂。
我們的技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的霧化噴涂。與傳統(tǒng)噴嘴相比協調機製,霧化消耗的壓縮氣體更少設備製造。
由于噴嘴具有自吸功能,無(wú)需泵即可噴射低粘度液體高質量發展。
通過(guò)微量精密?chē)婌F資源配置,即可獲得平均粒徑約5μm的超細(xì)顆粒。它有一個(gè)非常小的噴嘴攻堅克難,可以與20-750瓦的空氣壓縮機(jī)一起運(yùn)行機遇與挑戰。主要用途包括表面薄膜涂層、科學(xué)和醫(yī)療領(lǐng)域的極微量噴涂以及房間和各種設(shè)施的滅菌和消毒相關。
AM6和12型適合以極低的流量噴射細(xì)顆粒取得明顯成效。壓縮氣體流量也比傳統(tǒng)噴嘴小。主要應(yīng)用包括半導(dǎo)體晶圓精密?chē)娡坑绊懥爣?、電子元件及功能材料制造過(guò)程中的薄膜形成大力發展、噴涂、鍍膜等雙向互動。
基本結(jié)構(gòu)與AM型相同說服力,但噴嘴具有更大的噴霧流量。
應(yīng)用包括成型工藝更多可能性、高粘度液體涂層深刻變革、噴霧干燥機(jī)噴嘴、在食品上噴灑調(diào)味液以及重油和工廠(chǎng)廢油的高溫燃燒分析。
Atmax噴嘴BN型雖然具有φ2.0~φ6.0mm的大液體噴射孔徑至關重要,但能夠進(jìn)行極其穩(wěn)定的噴霧。它適用于大噴霧流量的工作,并且具有作為批量生產(chǎn)設(shè)備的噴嘴頭使用的良好記錄逐漸顯現。生產(chǎn)線(xiàn)上有噴涂工序、陶瓷上釉重要性、壓鑄制造過(guò)程中的脫模劑噴涂盒著力增加、廢氣凈化設(shè)備的噴嘴頭等體系。該噴嘴能夠連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)而不會(huì)堵塞,并且能夠霧化大量的處理液背景下。
該噴嘴專(zhuān)為適用于生產(chǎn)線(xiàn)和工廠(chǎng)中的大流量噴涂而開(kāi)發(fā)多種場景。噴霧直徑大,可將粘度1000cp以下的低粘度液體燃燒至汽油開展試點、煤油集中展示、重油、汽車(chē)傳動(dòng)廢油規劃、食用廢油等高粘度易燃廢油以及油脂液體和固體相當(dāng)于10,000cp的粉末建設,可用于霧化所混合的漿料等液體。
Atomax噴嘴CNP型具有φ3.5~φ5.6mm的超大液體直徑發展,即使是高粘度液體也能霧化,不會(huì)堵塞、下垂或滴落推進一步。所有零部件均由金屬制成探索創新,耐化學(xué)腐蝕,適合在高溫環(huán)境下連續(xù)運(yùn)行帶動擴大。 CNW有兩個(gè)供液口前來體驗,可以將兩種不同類(lèi)型的液體分別供給到噴嘴,然后在噴嘴噴射口處混合噴射實現了超越。根據(jù)工作條件發揮重要帶動作用,可以在不需要預(yù)先進(jìn)行液體混合的情況下進(jìn)行工作。