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碳鍍膜機與高真空蒸發(fā)設(shè)備的區(qū)別
碳鍍膜機主要分為僅有旋轉(zhuǎn)泵排氣的設(shè)備或配備渦輪泵的高真空蒸發(fā)設(shè)備質生產力。了解高真空蒸發(fā)設(shè)備性能的差異在選擇設(shè)備時非常有用。
旋轉(zhuǎn)泵排氣氣相沉積設(shè)備![]() VC-300S/W非常激烈、VES-10 | 高真空抽真空沉積設(shè)備![]() VE-2013提升行動、VE-2050 等 | |
真空排氣系統(tǒng) | 旋轉(zhuǎn)泵 | 旋轉(zhuǎn)泵+渦輪分子泵 |
沉積真空度 | 1-2(帕) | 5×10 -3 (Pa)以下 |
顆粒感 | ![]() 顆粒細,但膜較粗技術交流。 | ![]() 顆粒細密交流,膜質(zhì)美觀。 |
膜質(zhì)量 | 該薄膜粗糙且易碎可靠保障,因為它在與殘余分子碰撞時積累規劃。 | 無殘留分子,顆粒呈直線飛行機製、粘附各項要求,膜質(zhì)潔凈、堅固發力。 |
環(huán)繞能力 | 它在與殘余分子碰撞時向多個方向散射優勢與挑戰,因此具有一些環(huán)繞特性集成應用。 | 顆粒沿直線飛行并粘附,但在陰影區(qū)域不形成薄膜問題分析。 |
使用碳氣相沉積的目的 | 切片和支撐膜的加固迎來新的篇章、元素分析、高倍SEM觀察不負眾望、FIB保護膜等共同學習。 | 切片和支撐膜的強化、元素分析推動並實現、高倍SEM觀察、FIB保護膜、碳支撐膜的制作更加完善、遮蔽法等薄弱點。 |
*碳鍍膜機是針對特定用途而設(shè)計的,其用途有限精準調控,但可以降低設(shè)備價格效高。
該裝置是用于TEM、SEM優化程度、X射線分析等的碳膜生成裝置廣度和深度。用于防止樹脂嵌入樣品等的充電。 300W 用于創(chuàng)建特別厚的碳膜全方位,例如 XMA 和 FIB 樣品的保護膜信息。
使用旋轉(zhuǎn)泵進行碳沉積實踐者,同時使用皮拉尼真空計監(jiān)測真空水平管理。通過始終蒸發(fā)一定量的碳,可以實現(xiàn)高度可再現(xiàn)的碳沉積豐富。
請使用專用補充裝SLC-30作為碳源。
300S有一對電極,300W有兩對電極善於監督。 300W 使您可以通過開關(guān)將涂層厚度增加一倍進展情況。
旋轉(zhuǎn)泵(RP)為外置落地式。請將其安裝在堅固的工作臺上特點,以免與RP的振動產(chǎn)生共振研究。無需水冷。
該產(chǎn)品是一套裝置綠色化發展,包括裝置本身去創新、旋轉(zhuǎn)泵和 SUS 軟管。
需要親臨現(xiàn)場講解安裝和操作應用創新。
物品 | 規(guī)格 |
---|---|
電源 | AC100V(單相100V 15A) |
設(shè)備尺寸 | W255mm x D375mm x H430mm 重量 18kg |
旋轉(zhuǎn)泵 | 排氣速度 50?/min (GLD-051) 重量 14.6kg |
樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高140mm |
樣品臺尺寸 | Φ100mm |
氣相沉積源-樣品臺距離 | 45mm 至 75mm 可調(diào) |
可安裝樣品尺寸 | Φ98mm體系,最大樣品高度40mm |
氣相沉積電源 | 排氣足夠的實力、蒸發(fā)。 每個固定電壓進行 2 步切換提高,預(yù)設(shè)為最佳電壓 |
碳源 | 專用補充型碳SLC-30 |
專用碳
SLC-30
1箱(100個)
碳纖維
SLC-30
值 10 盒套裝
VC300玻璃鋼瓶包裝(2件1套)
VC300 玻璃腔體
如果夾緊彈簧和防塵板等零件出現(xiàn)劣化或損壞全面闡釋,我們還可以單獨制造它們。
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