TK-100露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)車間的運(yùn)用

露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用積極。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)是在

凈化間內(nèi)進(jìn)行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度（RH）這一項(xiàng)前景，一年內(nèi)控制點(diǎn)的范圍從35%到65%經驗，精度2%（70℃以下）濕度超標(biāo)會影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計(jì)劃的完成。

        在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)區(qū)保障性，濕度不穩(wěn)定不斷進步，會出現(xiàn)很多問題。最典型的問題是烘干期延長領先水平，整個處理過程變得難以控制認為。當(dāng)相對濕度高于35%時，元件易被腐蝕效率。此外良好，將顯影液噴在芯片表面時，顯影液迅速揮發(fā)增強，使芯片表面溫度下降倍增效應，致使水汽凝結(jié)在芯片表面。凝結(jié)水不但會影響顯影特性戰略布局，還會吸收到半導(dǎo)體內(nèi)重要意義，這將導(dǎo)致膨化及其它質(zhì)量缺陷，還必須增加一些不必要的工藝控制講道理。

        凈化間常用的除濕方法有兩種單產提升。一種是調(diào)節(jié)空氣，另一種是除濕劑置之不顧。采用第一種方法時多樣性，將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點(diǎn)以下。除去析出的冷凝水，將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后規模，重新送回凈化間數字化。標(biāo)準(zhǔn)冷凍機(jī)可保證露點(diǎn)達(dá)到+4℃；采用第二種方法時作用，氣流通過吸濕劑開展攻關合作，吸濕劑直接吸收氣流中的水分，然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點(diǎn)低于-18℃情況正常。

特征

• 國內(nèi)開發(fā)、國內(nèi)制造聯動、國內(nèi)校準(zhǔn)

• 露點(diǎn)測量范圍-100至+20℃dp

• 精度±2℃dp

• 高響應(yīng)速度

• 有競爭力的定價體系

• 交貨快捷

• 完善的支持體系

• 可追溯至國家標(biāo)準(zhǔn)

主要用途

• 手套箱內(nèi)的露點(diǎn)控制

• 干燥機(jī)露點(diǎn)檢查

• 熱處理爐內(nèi)氣氛控制

• 潔凈室和干燥室的露點(diǎn)管理

• 氣體純度控制

• 天然氣水分管理

• 半導(dǎo)體制造設(shè)備

• 有機(jī)EL制造

高品質(zhì)國產(chǎn)露點(diǎn)儀

實(shí)現(xiàn)易于安裝的價格范圍