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硅單晶提升裝置用放射溫度計(jì)介紹
可進(jìn)行高精度、出色的再現(xiàn)性微小光點(diǎn)的溫度測量
在硅單晶提拉工序中支撐作用,液面溫度和維塔溫度是左右鑄錠純度和鑄錠尺寸的重要要點(diǎn)穩步前行。通過使用輻射溫度計(jì)在線進(jìn)行測量和控制,可以生成高品質(zhì)的錠子培訓。
導(dǎo)入效果
抓住液面的正確的溫度變化等特點,提高質(zhì)量,通過加熱器的溫度控制為省工業(yè)內(nèi)做出貢獻(xiàn)
[商品的特點(diǎn)]
·距離系數(shù)大,可測量微小面積的溫度(IR-CZ)耐污染性強(qiáng)的雙色溫度計(jì)(1R-CZ)
●即使是小的測定容也可以設(shè)置的小形狀的聚光部(IR-FA)
功能強(qiáng)大的類型,可進(jìn)行單色或雙色測量重要工具,并可在 400℃ 至 2000℃ 的測量范圍內(nèi)選擇各種測量波長將進一步。光學(xué)系統(tǒng)和電路板全面更新,實(shí)現(xiàn)長期穩(wěn)定提供有力支撐。配備窗口污垢檢測功能實際需求,方便通過真空爐等窗口進(jìn)行測量。
實(shí)現(xiàn)高精度和長期穩(wěn)定性
利用我們過去的經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)發展成就,我們重新設(shè)計(jì)了光學(xué)系統(tǒng)和電路設(shè)計(jì)性能,以實(shí)現(xiàn)從低溫到超高溫的穩(wěn)定測量。
長期穩(wěn)定性已評估了大約 3 年優勢,溫度支持一直保持在定范圍內(nèi)設計。
工作溫度范圍:60℃(最高)這
是通過使用耐熱電子元件、提高物鏡的耐熱性品率、提高環(huán)境溫度校正性能來實(shí)現(xiàn)的善謀新篇。
通過與各種配件相結(jié)合,它可以應(yīng)對更惡劣的環(huán)境開展面對面。
將透鏡和光纖組合成光學(xué)系統(tǒng)的輻射溫度計(jì)創新能力。鏡頭部分形狀較小,可在150攝氏度的環(huán)境下使用主動性。一種短波長溫度計(jì)發展,測量范圍為400℃至3000℃,因測量目標(biāo)表面狀況的變化對溫度讀數(shù)影響很小範圍。
精度高效果、響應(yīng)快、可靠性高
緊湊、輕便求得平衡、DIN 導(dǎo)軌安裝、溫度顯示道路、含操作鍵
采用耐熱纖維面向,即使在150℃環(huán)境下也無需水冷
通過各種信號調(diào)制功能可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的溫度測量。
可以選擇通過模擬輸入進(jìn)行發(fā)射率設(shè)置和自動(dòng)發(fā)射率計(jì)算功能空間廣闊。
提供通訊接口 RS-485 (Chino Bus)
符合 CE 標(biāo)志