日本uv-asumi準(zhǔn)分子輻照裝置介紹

發(fā)布時(shí)間：2024-06-18　點(diǎn)擊量：750

日本uv-asumi準(zhǔn)分子輻照裝置介紹

準(zhǔn)分子燈利用充滿稀有氣體的燈內(nèi)產(chǎn)生的放電等離子體產(chǎn)生的光（準(zhǔn)分子光）創新為先。

主要波長(zhǎng)為126nm（Ar 2 *）、146nm（Kr 2 *）集成、172nm（Xe 2 *）規模最大、222nm（KrCl *）和308nm（XeCl * ）關註度。

我們使用Hamamatsu Photonics Co., Ltd.生產(chǎn)的Xe 2主波長(zhǎng)為172 nm的燈單元，并提供表面改性和親水處理（改善潤(rùn)濕性）的設(shè)備重要手段。

準(zhǔn)分子燈的特點(diǎn)

與電暈放電和等離子方法直接對(duì)工件進(jìn)行放電不同成效與經驗，準(zhǔn)分子照射僅照射真空紫外線，因此對(duì)工件幾乎不會(huì)造成損壞健康發展。
與因電極濺射而產(chǎn)生灰塵的電暈放電法和等離子法不同提供了有力支撐，可以進(jìn)行清潔加工。
準(zhǔn)分子照射使用平板燈發(fā)出的光堅實基礎，因此不存在加工不均勻的情況積極。

光的波長(zhǎng)越短，它的能量就越高前景。使用氙 (Xe) 的準(zhǔn)分子燈具有 172nm 的主波長(zhǎng)和 698kJ/mol (7.23eV) 的高能量經驗。利用這種高能量，它可用于特氟龍等難以使用低壓汞燈對(duì)其表面進(jìn)行改性的材料長效機製。

該裝置集成了主波長(zhǎng)為172nm的準(zhǔn)分子照射裝置進一步意見、掃描臺(tái)和臭氧分解裝置，僅使用100V電源即可輕松安全地進(jìn)行準(zhǔn)分子表面改性實(shí)驗(yàn)等地。

掃描階段允許處理比以前更大的區(qū)域產業。集成臭氧分解裝置，無需排氣設(shè)備等共享應用。

這是照射寬度為400mm的準(zhǔn)分子照射單元的掃描型照射裝置工具。
最大工作尺寸為 400 x 800 毫米。