該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置的必然要求。配備觸摸屏和定序器控制，任何人都可以輕松地全自動在樣品上進行導(dǎo)電膜沉積物聯與互聯。采用空心陰極樣品臺狀況，采用低壓放電進行鍍膜，對樣品幾乎無損傷取得了一定進展。由于空心陰極內(nèi)部產(chǎn)生均勻的高密度等離子體業務，因此無論樣品的高度或材料如何，放置在圓柱體內(nèi)的樣品表面都會形成均勻厚度的Os膜供給。由于僅將所需量的鋨氣體注入空心陰極不斷發展，因此消耗較低，并且未反應(yīng)的氣體被活性炭捕集器吸附和去除拓展應用，抑制了有害氣體釋放到大氣中非常重要。

目的
用于 SEM 和 TEM 的鋨鍍膜設(shè)備。由于其細小的粒徑和出色的環(huán)繞特性自動化方案，它對于高倍觀察目的和復(fù)雜形狀的樣品非常有效行動力。超薄 Os 導(dǎo)電涂層還使其適用于 EBSD 分析、俄歇分析和 X 射線分析空間廣闊。