hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)（靜電噴墨）

• 高粘性材料的圖案化成為可能！

  　我們的靜電點(diǎn)膠技術(shù)可實(shí)現(xiàn) pL 至 fL 級的微點(diǎn)膠多元化服務體系，而這在傳統(tǒng)方法（噴墨等）中是很難實(shí)現(xiàn)的處理。它還可以應(yīng)用于樹脂和甘油等高粘度樣品，這些樣品迄今為止無法制成細(xì)小液滴實力增強。此外自然條件，它不僅可以應(yīng)用于導(dǎo)電材料，還可以應(yīng)用于玻璃等絕緣基板。

  　通過結(jié)合靜電點(diǎn)膠技術(shù)和 XY 移動平臺體系流動性，可以對各種微滴進(jìn)行圖案化。配備“橫向靜電點(diǎn)膠/圖案化裝置"深度，可以在觀察從噴嘴前端到工件的靜電吸力的同時確定液滴形成條件助力各行，以及落射照明顯微鏡，我們可以滿足客戶的需求探討。各種各樣的變化新技術，包括“外延觀察圖案形成裝置"，該裝置將液滴直接滴到可見區(qū)域上持續創新，同時從基板上方實(shí)時觀察它們創造。僅對于側(cè)式靜電點(diǎn)膠/圖案設(shè)備，可以選配可控制滴注環(huán)境溫度和濕度的外部腔室分析。

• 應(yīng)用示例：

  ● 可印刷電子產(chǎn)品（包括3D）、線路修復(fù)、化學(xué)傳感器制造合規意識、小零件的樹脂密封

  ● 提供局部電氣絕緣聽得懂、3D 器件原型制作、功能圖案原型制作協調機製、局部化學(xué)鍍

  ● 抗蝕劑材料的局部涂敷設備製造、生物芯片的制造、發(fā)光面及發(fā)電面的輔助布線、透鏡的遮光部的形成資源配置。

  ● 接收天線的制造形勢、將試劑局部應(yīng)用于生物組織、納米線的制造機遇與挑戰、點(diǎn)圖案的形成等高效節能。

• 相關(guān)產(chǎn)品

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  側(cè)面觀察式靜電點(diǎn)膠圖案化裝置

  (ODS-P系列）

  落射照明觀察式靜電點(diǎn)膠制圖裝置

  （QDX系列）