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它由紅外引入主體深入實施、多口真空室、溫度控制器等組成特點,能夠在高真空下對樣品進行超高速加熱相互配合。 它有許多真空口,可用于多種實驗品質。 |
| 通過打開和關閉真空室前門即可取出和取出樣品重要的角色。 |
| [應用] - 真空和氣體環(huán)境中樣品的連續(xù)加熱和冷卻控制 - 樣品表面加熱和背面冷卻的快速升降溫測試(可選) - 加壓氣氛中加熱(可選) |
| 型號名稱 | GV1 | GV2 | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | 達到最高溫度 | 1300℃ | 1500℃ | 加熱面積 | ~φ20mm | 最大升溫速率 | 100~150℃/秒 | 最大真空度 | 5× 10-5帕 | 冷卻水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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它由紅外線導入加熱裝置、小型真空室體製、測溫樣品部要落實好、溫度控制器等組成。 |
| 通過從底部用紅外線照射真空室內(nèi)的樣品向好態勢,可以清潔地加熱樣品并以超高速升高溫度相對簡便。 您可以在樣品加熱時從腔室頂部的觀察窗觀察樣品并拍照創新科技。 |
| 型號名稱 | RTA198 | RTA298 | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | 達到最高溫度 | 900~1000℃ | 1000~1300℃ | 加熱面積 | ~φ20mm | 最大真空度 | 5×10 -3帕 | 5× 10-5帕 | 冷卻水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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它由超高真空紅外感應加熱裝置、超高真空室特性、質(zhì)譜儀服務機製、電源/安全電路單元、真空排氣裝置組成共創輝煌,能夠?qū)悠樊a(chǎn)生的痕量氣體進行質(zhì)譜分析達到高溫培訓。 |
| 紅外感應加熱設備的熱源位于真空室外,不產(chǎn)生氣體使用,可以進行清潔加熱,可以進行高精度分析。 |
| 型號名稱 | 病毒2H | 紅外燈額定值 | 2千瓦 | 達到最高溫度 | 1500℃ | 加熱面積 | φ15mm | 最大真空度 | 5× 10-6帕 | 交貨目的地 | 京都大學 |
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介紹三種非常適合在磁場中對樣品進行熱處理的模型建言直達。 【特點】 - 由于采用紅外線傳輸加熱方式大幅拓展,樣品不受電磁感應影響 - 只能對樣品進行精準加熱,磁體壁不被加熱大部分。 |
| 也可以在真空或氣體氣氛中升高溫度重要工具。 可貼附于超導磁體及各種電磁鐵上。 |
| 當樣品溫度為1000℃時更加堅強,孔內(nèi)壁溫度低于40℃提供有力支撐。 |
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在高真空中進行 X 射線照射時,樣品被加熱至超高溫度配套設備。 (紅外線從左上對角方向和右下對角方向照射發展成就,X射線從左側(cè)和水平方向照射。) |
| 真空室安裝在XY工作臺引領作用、旋轉(zhuǎn)工作臺和旋轉(zhuǎn)工作臺上,可以在加熱聽得進、保持或冷卻樣品的同時從任何角度分析樣品的晶體結(jié)構(gòu)深入。 |
| 型號名稱 | GVL298-2S | 紅外燈額定值 | 2kW×2 | 達到最高溫度 | 1500℃ | 加熱面積 | φ20mm | 最大真空度 | 5× 10-4帕 |
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| 送貨目的地:Spring-8 |
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紅外感應加熱裝置與各種分析裝置結(jié)合使用。 左圖是X射線光電子能譜儀全技術方案。 |
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這是將 GVL298 類型安裝到 XPS 的示例基本情況。 通過紅外線照射對預真空室內(nèi)的樣品進行加熱,除去樣品中所含的水分和氣體并進行清潔重要的。 樣品在超高真空中通過傳輸桿移動到照片右側(cè)的XPS分析室充分發揮,在那里接受X射線照射并進行表面分析。 |
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