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thermo近紅外加熱裝置的特點

發(fā)布時間:2024-03-29 點擊量:1095

thermo近紅外加熱裝置的特點


它可以僅對置于超高真空或氣流等各種氣氛中的樣品照射精確的紅外線改善,并以非接觸方式快速加熱樣品。

它可以輕松連接到真空系統(tǒng)和分析設備。
這是Thermo Riko的主要型號了解情況。






升溫快:最大升溫速率150℃/秒參與能力,約1分鐘升至1500℃
清潔供暖:不用擔心熱源或電磁感應產(chǎn)生氣體
局部供暖:僅向樣品照射紅外線,不加熱周圍區(qū)域
可自由連接:可安裝在各種真空系統(tǒng)中(ICF70)






Si長期間、SiC新的力量、石墨烯等樣品的快速加熱和退火
氧化氣氛中氧化物晶體的生成和薄膜的形成
在氫氣或氮氣中加熱基材
X 射線或 UV 照射期間樣品溫度升高
熱解吸氣體分析儀、XPS是目前主流、XRD分享、PLD 等分析儀中樣品的加熱。
磁場加熱便利性、無磁場加熱
在加壓氣氛下加熱
通過向樣品施加負載來加熱






   紅外線感應加熱設備根據(jù)應用有以下規(guī)格開展研究。


 超高真空型 兼容10 -9 Pa超高真空。
 快速加熱型 可高速加熱信息化,最大加熱速度可達150℃/秒力量。
 常壓加熱型 可以對放置在大氣中的樣品進行點加熱。
 加壓氣氛型 可以加熱低于 10 個大氣壓的加壓室中的樣品。
 特殊規(guī)格 利用GV系列的特點方式之一,可以滿足快速冷卻、負載加熱深刻認識、磁場加熱等各種要求首要任務。
 請隨時與我們聯(lián)系。
 符合 CE 標志 我們還生產(chǎn)符合 CE 標志的產(chǎn)品新型儲能。

原理圖


 超高真空型GVH

型號名稱GVH198GVH298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 達到最高溫度1200℃1400℃
 加熱面積φ20mm
 最大升溫速率1℃/秒
 最大真空度5×10 -9帕
 冷卻水量1升/分鐘2升/分鐘

 快速加熱型GV/GVL

型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
 紅外燈額定值500W1千瓦2千瓦3千瓦
 達到最高溫度1100℃1300℃1500℃1600℃
 加熱面積φ14mmφ20mm
 最大升溫速率100℃/秒100~150℃/秒
 最大真空度5× 10-7帕
 冷卻水量1升/分鐘2升/分鐘

 加壓氣氛型GVP

型號名稱GVP198GVP298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 達到最高溫度1200℃1300℃
 加熱面積 φ20mm
 最大升溫速率 100℃/秒
 最大耐壓 1MPa以下
 冷卻水量1升/分鐘2升/分鐘







它由紅外引入主體深入實施、多口真空室、溫度控制器等組成特點,能夠在高真空下對樣品進行超高速加熱相互配合。
它有許多真空口,可用于多種實驗品質。

通過打開和關閉真空室前門即可取出和取出樣品重要的角色。

[應用]
- 真空和氣體環(huán)境中樣品的連續(xù)加熱和冷卻控制
- 樣品表面加熱和背面冷卻的快速升降溫測試(可選)
- 加壓氣氛中加熱(可選)

型號名稱GV1GV2
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 達到最高溫度1300℃1500℃
 加熱面積~φ20mm
 最大升溫速率100~150℃/秒
 最大真空度5× 10-5帕
 冷卻水量1升/分鐘2升/分鐘

GV2



它由紅外線導入加熱裝置、小型真空室體製、測溫樣品部要落實好、溫度控制器等組成。

通過從底部用紅外線照射真空室內(nèi)的樣品向好態勢,可以清潔地加熱樣品并以超高速升高溫度相對簡便。
您可以在樣品加熱時從腔室頂部的觀察窗觀察樣品并拍照創新科技。

型號名稱RTA198RTA298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 達到最高溫度900~1000℃1000~1300℃
 加熱面積~φ20mm
 最大真空度5×10 -3帕5× 10-5帕 
 冷卻水量1升/分鐘2升/分鐘
 


RTA298



它由超高真空紅外感應加熱裝置、超高真空室特性、質(zhì)譜儀服務機製、電源/安全電路單元、真空排氣裝置組成共創輝煌,能夠?qū)悠樊a(chǎn)生的痕量氣體進行質(zhì)譜分析達到高溫培訓。

紅外感應加熱設備的熱源位于真空室外,不產(chǎn)生氣體使用,可以進行清潔加熱,可以進行高精度分析。

型號名稱病毒2H
 紅外燈額定值2千瓦
 達到最高溫度1500℃
 加熱面積φ15mm
 最大真空度5× 10-6帕 
 交貨目的地京都大學

病毒2H



介紹三種非常適合在磁場中對樣品進行熱處理的模型建言直達。
【特點】
- 由于采用紅外線傳輸加熱方式大幅拓展,樣品不受電磁感應影響
- 只能對樣品進行精準加熱,磁體壁不被加熱大部分。

也可以在真空或氣體氣氛中升高溫度重要工具。
可貼附于超導磁體及各種電磁鐵上。

當樣品溫度為1000℃時更加堅強,孔內(nèi)壁溫度低于40℃提供有力支撐。

 GVL298M





在高真空中進行 X 射線照射時,樣品被加熱至超高溫度配套設備。
(紅外線從左上對角方向和右下對角方向照射發展成就,X射線從左側(cè)和水平方向照射。)

真空室安裝在XY工作臺引領作用、旋轉(zhuǎn)工作臺和旋轉(zhuǎn)工作臺上,可以在加熱聽得進、保持或冷卻樣品的同時從任何角度分析樣品的晶體結(jié)構(gòu)深入。

型號名稱GVL298-2S
 紅外燈額定值2kW×2
 達到最高溫度1500℃
 加熱面積φ20mm
 最大真空度5× 10-4帕 

 送貨目的地:Spring-8
 GVL298-2S



紅外感應加熱裝置與各種分析裝置結(jié)合使用。
左圖是X射線光電子能譜儀全技術方案。

 
這是將 GVL298 類型安裝到 XPS 的示例基本情況。
通過紅外線照射對預真空室內(nèi)的樣品進行加熱,除去樣品中所含的水分和氣體并進行清潔重要的。
樣品在超高真空中通過傳輸桿移動到照片右側(cè)的XPS分析室充分發揮,在那里接受X射線照射并進行表面分析。


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