TK-100露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體行業(yè)的運(yùn)用特點(diǎn)

測量氣體中的水蒸氣露點(diǎn)溫度的儀器叫做露點(diǎn)儀交流等。露點(diǎn)儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同，可以分為多種類型發展目標奮鬥。這里只介紹熱電制冷自動檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用自動化裝置。

       露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)是在

凈化間內(nèi)進(jìn)行的不斷完善。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度（RH）這一項(xiàng)發揮效力，一年內(nèi)控制點(diǎn)的范圍從35%到65%，精度2%（70℃以下）濕度超標(biāo)會影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計(jì)劃的完成方案。

        在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)區(qū)，濕度不穩(wěn)定同時，會出現(xiàn)很多問題實施體系。最典型的問題是烘干期延長，整個處理過程變得難以控制幅度。當(dāng)相對濕度高于35%時技術創新，元件易被腐蝕。此外各有優勢，將顯影液噴在芯片表面時技術發展，顯影液迅速揮發(fā)，使芯片表面溫度下降資料，致使水汽凝結(jié)在芯片表面自動化。凝結(jié)水不但會影響顯影特性，還會吸收到半導(dǎo)體內(nèi)集成，這將導(dǎo)致膨化及其它質(zhì)量缺陷規模最大，還必須增加一些不必要的工藝控制。  

        凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調(diào)節(jié)空氣重要手段，另一種是除濕劑。采用第一種方法時橫向協同，將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點(diǎn)以下不折不扣。除去析出的冷凝水，將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后穩定性，重新送回凈化間最深厚的底氣。標(biāo)準(zhǔn)冷凍機(jī)可保證露點(diǎn)達(dá)到+4℃；采用第二種方法時健康發展，氣流通過吸濕劑提供了有力支撐，吸濕劑直接吸收氣流中的水分，然后將除濕后的空氣送回凈化間堅實基礎。吸濕劑除濕法可使露點(diǎn)低于-18℃積極。

      另外大數據，半導(dǎo)體芯片需在化學(xué)氣相沉積外延反應(yīng)爐中加工，將一層穩(wěn)定的單晶硅膜沉積在芯片上經驗。在加工過程中反應(yīng)爐中的水氣和氧氣會污染沉積膜而降低

產(chǎn)量。

         反應(yīng)爐工作氣壓范圍從高真空度到大氣壓，可在約344kPa壓力下預(yù)凈化處理不斷進步。該工藝所需的氣體包括：胂化氫信息化技術、磷化氫、氫認為、氮和氬等責任製。膜沉積工藝質(zhì)量取決于對氣體混合及質(zhì)量流量的控制。產(chǎn)量取決于濕度的控制精度良好。也就是說雙重提升，濕度及氧的測量，對設(shè)計(jì)嚴(yán)格的氣體混合規(guī)范十分重要倍增效應，整個工藝過程離不開熱電制冷自動檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀的監(jiān)測結果。

特征

• 國內(nèi)開發(fā)、國內(nèi)制造重要意義、國內(nèi)校準(zhǔn)

• 露點(diǎn)測量范圍-100至+20℃dp

• 精度±2℃dp

• 高響應(yīng)速度

• 有競爭力的定價體系

• 交貨快捷

• 完善的支持體系

• 可追溯至國家標(biāo)準(zhǔn)

主要用途

• 手套箱內(nèi)的露點(diǎn)控制

• 干燥機(jī)露點(diǎn)檢查

• 熱處理爐內(nèi)氣氛控制

• 潔凈室和干燥室的露點(diǎn)管理

• 氣體純度控制

• 天然氣水分管理

• 半導(dǎo)體制造設(shè)備

• 有機(jī)EL制造