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F20膜厚測量系統(tǒng)工作原理分析
這是一種行業(yè)標準長期間、低成本新的力量、多功能桌面涂層厚度測量系統(tǒng)技術研究,已安裝在全球 5,000 多個裝置中。它可用于廣泛的應用分享,從研究和開發(fā)到制造現(xiàn)場的在線測量現場。
F20基于光學干涉法,可以在約1秒內(nèi)輕松測量透明或半透明薄膜的厚度開展研究、折射率和消光系數(shù)高質量。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信力量,因此也可以從PLC或主機進行控制可靠。
當入射光穿透不同物質(zhì)的界面時將會有部份的光被反射,由于光的波動性導致從多個界面的反射光彼此干涉大型,從而使反射光的多波長光譜產(chǎn)生振蕩的現(xiàn)象的可能性。從光譜的震蕩頻率,愈多的震蕩代表較大的厚度不可缺少。而其他的材料特性如折射率與粗糙度也也能同時測量系列。
兼容多種薄膜厚度(1nm 至 250μm)
兼容寬波長范圍(190nm至1700nm)
強大的膜厚分析
光學常數(shù)分析(折射率/消光系數(shù))
緊湊型外殼
支持在線測量
平板 | 單元間隙、聚酰亞胺服務為一體、ITO方案、AR膜、 各種光學膜等 |
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半導體 | 抗蝕劑相互配合、氧化膜統籌發展、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
光學鍍膜 | 防反射膜、硬涂層等 |
薄膜太陽能電池 | CdTe慢體驗、CIGS體製、非晶硅等 |
砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等 | |
醫(yī)療保健 | 鈍化即將展開、藥物涂層等 |
基本應用:
基本上所有光滑的向好態勢、半透明或低吸收系數(shù)薄膜都可以測量。這包括幾乎所有的電介質(zhì)與半導體材料創新科技,例如: