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yokohamarika半導(dǎo)體制造設(shè)備的優(yōu)勢(shì)

發(fā)布時(shí)間:2023-02-13 點(diǎn)擊量:882

yokohamarika半導(dǎo)體制造設(shè)備的優(yōu)勢(shì)

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半導(dǎo)體制造設(shè)備
光刻膠順滑地配合、顯影劑、沖洗液薄弱點、蝕刻劑上高質量、去除劑、清洗液、抗蝕劑去除劑


產(chǎn)品概覽

 有效去除半導(dǎo)體制造過程中使用的化學(xué)品和溶劑中的氣泡和溶解氣體建設應用。
去除光刻膠優化程度、顯影劑、沖洗液實現、蝕刻劑、去除劑舉行、清洗液、抗蝕劑剝離液等化學(xué)溶液中的氣泡和溶解氣體。
通過去除它習慣,可以預(yù)期產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定性和成品率提高等效果記得牢。
 有效去除氣泡和溶解氣體,這對(duì)于控制化學(xué)品和溶劑的濃度和體積是*覆蓋,可以實(shí)現(xiàn)精確的化學(xué)品控制服務體系。
它環(huán)保且成本低。

?消除半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的問題氣泡重要的作用,穩(wěn)定質(zhì)量特點,提高成品率,防止故障搶抓機遇。
? 有效去除阻礙化學(xué)品和溶劑濃度和體積控制的氣泡和溶解氣體綠色化發展。

低價(jià)格——氟脫氣模塊(化學(xué)品/溶劑用)是高性能低價(jià)格的脫氣模塊。
與傳統(tǒng)氟基(PTFE)脫氣模塊相比結論,產(chǎn)品性能提升應用創新,價(jià)格降低40%。
該產(chǎn)品價(jià)格低廉足夠的實力,非常適合正在考慮脫氣設(shè)備的客戶和諧共生。

產(chǎn)品特點(diǎn)

 與傳統(tǒng)的PTFE(氟基)脫氣模塊相比,產(chǎn)品性能得到提升全面闡釋,價(jià)格大幅降低用上了。
PTFE(氟系)等助劑無溶出,不易附著污垢的PFA全部用于接液部適應性強,適用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域生產製造。
您可以放心使用。
脫氣效率高綜合措施,對(duì)流量的依賴性小多元化服務體系,因此即使增加流量,脫氣能力也不會(huì)明顯下降攜手共進。

 氟樹脂膜概要

耐化學(xué)性:耐大多數(shù)化學(xué)品和溶劑實力增強,氟基化學(xué)品和溶劑除外。
耐沾污:污漬不易附著,即使附著也可輕松去除供給。
非洗脫:不洗脫金屬離子等雜質(zhì)全過程。通常,氟基樹脂膜(PTFE)在加工過程中會(huì)添加助劑積極參與。
產(chǎn)品有助劑浸出優勢領先,但含氟脫氣模塊不使用助劑,干凈探討。

產(chǎn)品陣容



型號(hào)
最大流量(80%以上的脫氣效率)
最大流量(脫氣效率50%以上)
內(nèi)部能力
尺寸
MF100
20毫升/分鐘新技術。
-
40毫升
Φ120×120(毫米)
MF300
50毫升/分鐘。
-
110毫升
Φ120×160(毫米)
MF500
80毫升/分鐘共創美好。
300毫升/分鐘趨勢。
150毫升
Φ120×160(毫米)
MF1000
150毫升/分鐘。
500毫升/分鐘預判。
300毫升
Φ120×240(毫米)
MF1000-2
300毫升/分鐘。
1000毫升/分鐘。
600毫升
W250×H330×D115(毫米)


除氧器(備忘)我 莫 通過并聯(lián) MF1000-2調解製度,可以處理 1000ml/min 以上的流量深入。
最大流量 通大氣飽和水溶解氧去除率80%以上時(shí),最大流量50%以上覆蓋範圍,水溫25℃設備製造,真空度12kPa(約90torr)
內(nèi)部能力 內(nèi)部體積包括脫氣模塊內(nèi)的氣體分離膜、管道和接頭
薩 胃 Z 外形尺寸(不包括突出部分)

評(píng)價(jià)

使用該脫氣模塊時(shí)高質量發展,需要滿足以下條件之一資源配置。
?真空泵或真空管線
?帶真空控制功能的真空泵


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