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日本funatech紫外線運(yùn)用設(shè)備介紹
UV氧化設(shè)備主要用于超純水生產(chǎn)設(shè)備。在近年來小型化的半導(dǎo)體保障、晶片重要的角色、液晶面板等的制造中，為了保持高成品率體製，去除水中的TOC（有機(jī)物）等雜質(zhì)的超純水盡可能是必需的要落實好。
紫外線氧化裝置是與后段離子交換樹脂一起生產(chǎn)超純水*的裝置，被許多電子廠采用向好態勢。
■ 典型分子的化學(xué)結(jié)合能
■ 主波長能量
■ 分解型
它是一種有效地照射由大功率低壓汞燈產(chǎn)生的真空紫外線（184.9 nm）并氧化分解水中有機(jī)物的裝置相對簡便。適用于將 TOC 降低 ppb 級。
* 型號將根據(jù)安裝空間更默契了、處理量和所需的 TOC 濃度進(jìn)行選擇問題分析。
近年來，臭氧水由于具有很強(qiáng)的氧化能力解決方案，被廣泛用作半導(dǎo)體廠和液晶廠的清洗水。但是共同學習，使用后的有害臭氧水即使?jié)舛鹊鸵矊θ梭w有害交流研討，對設(shè)備造成很大的負(fù)擔(dān)，例如配管內(nèi)的填料劣化，因此需要迅速分解順滑地配合。OR系列可在短時間內(nèi)將高濃度臭氧水分解至1ppm以下。它還可以有效降低運(yùn)行成本和維護(hù)頻率薄弱點。
■ 使用示例
它可以用作活性炭吸附的替代品上高質量。
也可提供高濃度、高流量設(shè)備效高。
我們有很多拆機(jī)記錄建設應用。
* 機(jī)型將根據(jù)處理量和臭氧濃度進(jìn)行選擇。
它是一種通過低壓汞燈發(fā)出的真空紫外線（184.9 nm）將氧（O3）臭氧化的裝置廣度和深度。
由于不產(chǎn)生氮氧化物應用的因素之一，因此很容易產(chǎn)生清潔的臭氧創新延展，不會產(chǎn)生對人體有不利影響的光化學(xué)煙霧或空氣污染，如喉嚨和氣管。
臭氧產(chǎn)生量：0.1-2.0 g/h
體積小巧緊湊長效機製。
它消耗更少的電力并且維護(hù)成本更低。
