熱化學(xué)氣相沉積-熱CVD技術(shù)

化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來(lái)制備高純高端化、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD工藝過(guò)程中姿勢，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中充分發揮，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣重要平臺、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)相互融合，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域工藝設(shè)備開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)生動，先后完成了PECVD提單產、APCVD、LPCVD綠色化、ALD等設(shè)備的開(kāi)發(fā)設計，致力于為集成電路、半導(dǎo)體照明能力建設、微機(jī)電系統(tǒng)高效、功率半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體基礎、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備領域，滿足客戶多種制造工藝需求。

熱CVD設(shè)備型號(hào)：HCVD400-40 / 工作溫度：800℃

套裝內(nèi)容：管式爐要素配置改革、控制器、石英爐芯管、法蘭無障礙、支架體系、龍門(mén)架
　　　　　　　* 討論了龍門(mén)架的形狀和尺寸、燃?xì)忸愋透弋a、流量?jì)註入新的動力、燃?xì)夤艿馈㈤y門(mén)部件帶動產業發展。