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壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測技術(shù)介紹
一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)了解情況、價(jià)格低廉、用途廣泛的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)法治力量，已安裝了 5,000 多臺長期間。它可用于從研發(fā)到生產(chǎn)現(xiàn)場在線測量的廣泛應(yīng)用。
F20可以在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚技術研究、折射率和消光系數(shù)是目前主流。
它還支持多點(diǎn)在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信現場，因此可以從PLC或上位機(jī)控制便利性。
ScAlN 薄膜厚度檢測特點(diǎn)
支持廣泛的薄膜厚度（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長范圍（190nm 至 1700nm）
強(qiáng)大的膜厚分析
光學(xué)常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊型外殼
支持在線測量
測厚技術(shù)的主要用途
| 平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO估算、AR薄膜、 各種光學(xué)薄膜等 |
|---|---|
| 半導(dǎo)體 | 抗蝕劑達到、氧化膜深入各系統、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
| 光學(xué)鍍膜 | 減反射膜數字技術、硬涂層等 |
| 薄膜太陽能電池 | CdTe共享應用、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化鋁鎵（AlGaAs）尤為突出、磷化鎵（GaP）等 | |
| 醫(yī)療保健 | 鈍化情況較常見、藥物涂層等 |
相關(guān)設(shè)備介紹
| 模型 | F20-UV | F20 | F20-近紅外 | F20-EXR | F20-UVX |
|---|---|---|---|---|---|
| 測量波長范圍 | 190 – 1100nm | 380 – 1050nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
| 膜厚測量范圍 | 1nm – 40μm | 15nm – 70μm | 100nm – 250μm | 15nm – 250μm | 1nm – 250μm |
| 準(zhǔn)確性* | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ||
| 1納米 | 2納米 | 3納米 | 2納米 | 1納米 | |
| 測量光斑直徑 | 支持1.5 毫米或 0.5 毫米最小 0.1 毫米（可選） | ||||
| 光源 | 氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 | ||
* 由 Filmometry 提供的在 Si 基板上測量 SiO2 薄膜時(shí)的設(shè)備主體精度。
