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光譜干涉儀技術(shù)在薄膜測厚儀上的運(yùn)用
| 模型 | FOS |
|---|---|
| 測量方法 | 非接觸式/光譜干涉儀 |
| 測量對(duì)象 | 電子服務水平、光學(xué)用透明平滑膜線上線下、多層膜 |
| 測量原理 | 光譜干涉儀 |
實(shí)現(xiàn)高測量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小，取決于對(duì)象和測量條件）
不易受溫度變化的影響
可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過程中使用的在線型更合理。
反射型允許從薄膜的一側(cè)測量
只能測量透明涂膜層（取決于測量條件）
| 測量厚度 | 1 至 50 μm（用于薄材料）有序推進、10 至 150 μm（用于厚材料） |
|---|---|
| 測量長度 | 50-5000 毫米 |
| 測量間距 | 1 毫米 ~ |
| 最小顯示值 | 0.001 微米 |
| 電源電壓 | AC100 伏 50/60 赫茲 |
| 工作溫度限制 | 5～45℃（測量時(shí)溫度變化在1℃以內(nèi)） |
| 濕度 | 35-80%（無冷凝） |
| 測量區(qū)域 | φ0.6毫米 |
| 測量間隙 | 約 30 毫米 |
