離線分光干涉測(cè)厚儀的原理及運(yùn)用

適用于光學(xué)薄膜和透明涂層薄膜

模型	飛行時(shí)間
測(cè)量方法	非接觸式/光譜干涉測(cè)量法
測(cè)量對(duì)象	電子和光學(xué)用透明平滑膜適應性、多層膜
測(cè)量原理	光譜干涉儀

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 實(shí)現(xiàn)高測(cè)量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小顯著，取決于對(duì)象和測(cè)量條件）

• 不易受溫度變化的影響

• 可以生產(chǎn)用于研究和檢查的離線式和在制造過(guò)程中使用的在線式。

• 反射型允許從薄膜的一側(cè)進(jìn)行測(cè)量

• 僅可測(cè)量透明涂膜層（取決于測(cè)量條件）

產(chǎn)品規(guī)格