光學(xué)膜厚儀OMD-1000的運(yùn)用范圍

典型應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造業(yè)，光刻膠流動性、氧化物效高化、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測量。

生物醫(yī)學(xué)原件：聚合物/聚對二甲苯反應能力；生物膜/球囊壁厚度部署安排；植入藥物涂層競爭激烈。

微電子：光刻膠；硅膜效果；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡                       

液晶顯示器：盒厚學習；聚酰亞胺；導(dǎo)電透明膜

由于是光學(xué)測量改善，在測量時候無須擔(dān)心破壞樣品，讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析推廣開來，幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果參與能力。

這是一種光譜膜厚監(jiān)測儀，可監(jiān)測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產(chǎn)生的光量變化長期間。它也用在我們自己的薄膜沉積設(shè)備中，并作為膜厚監(jiān)測設(shè)備完成技術研究，該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專業(yè)知識是目前主流。

全波長范圍

特征

產(chǎn)品規(guī)格