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日本sanyu electron臺式快速涂布機SC-708系列 離子濺射設(shè)備適應能力，用于大型基材的全涂層 濺射靶材的尺寸為1英寸緊密協作，例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'高質量發展。 在形成微通道流動路徑以及濺射薄膜制造時支持PDMS表面處理

日本sanyu electron臺式快速涂布機SC-701HMCⅡ 支持W（鎢）/ Ni（鎳）/ Cr（鉻）/ Ti（鈦）等成膜的DC濺射設(shè)備全過程。 使用磁控管陰極 內(nèi)置微型計算機對成膜過程進(jìn)行高精度控制

日本sanyu electron臺式快速涂布機SC-701MC 使用磁控管陰極以減少離子損傷 排氣→涂層→全自動相互融合，直到進(jìn)入大氣 磁控管陰極有助于生產(chǎn)高質(zhì)量的濺射薄膜

日本sanyu electron臺式快速涂布機SC-701AT 排氣→涂層（蝕刻）→全自動不斷創新，直到進(jìn)入大氣 盡管是緊湊型高效利用，但仍可以進(jìn)行膜厚控制（簡單型） 全自動濺射設(shè)備，操作簡便去突破，重現(xiàn)性高

日本sanyu electron臺式快速涂布機SC-701MkⅡ 直流濺射類別中系列中小的超緊湊機型 小型濺射裝置品質，可以輕松地制造電極薄膜 標(biāo)配間歇濺射功能