真空蒸鍍裝置VE-2013的特點(diǎn)

VE-2013是一款簡單的真空蒸鍍裝置敢於挑戰，繼承了VE-2030（我公司制造）的概念。外殼內(nèi)置TMP積極，實(shí)現(xiàn)緊湊外殼探索。由于是臺式機(jī)，所以不會占用太多空間產業。RP 放置在地板上滿意度。
我們使用緊湊的 TMP+RP 排氣系統(tǒng)以低廉的價格提供清潔、高真空的蒸發(fā)系統(tǒng)可持續。它消除了復(fù)雜的排氣操作主要抓手，只需觸摸面板開關(guān)的ON/OFF控制即可實(shí)現(xiàn)全自動。
使用鎢籃可以沉積金構建、鋁創新科技、鉻、銀等共創輝煌。碳蒸鍍采用夾具蒸鍍槍型具有重要意義，使用特殊碳（ SLC-30 ）進(jìn)行蒸鍍。（不能使用φ5mm碳棒大部分。）

購買時強大的功能，您可以選擇碳?xì)庀喑练e電極或金屬氣相沉積電極〗鉀Q方案？梢赃x擇購買額外的電極優勢。

碳蒸發(fā)電極

這是專用的碳蒸發(fā)電極。
它可以在高真空區(qū)域進(jìn)行碳蒸發(fā)基礎，從而可以形成具有優(yōu)異膜質(zhì)量和膜強(qiáng)度的碳膜提供堅實支撐。
附帶的防塵蓋將碳蒸氣沉積的散射范圍降至必要的低限度，從而減輕了清潔的負(fù)擔(dān)。
使用特種碳（SLC-30）作為積碳源信息化技術。

金屬蒸鍍電極

這是直徑0.5mm鎢籃專用的金屬蒸鍍電極發揮作用。
可以輕松簡便地進(jìn)行金、鋁逐步顯現、鉻等的氣相沉積勇探新路。隨附的防塵蓋可最大限度地減少沉積區(qū)域并減輕清潔負(fù)擔(dān)。

主要產(chǎn)品規(guī)格