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研發(fā)用真空置換爐氣氛爐[Mini-BENCH]系列介紹
超緊湊臺(tái)式超高溫實(shí)驗(yàn)反應(yīng)釜
[Mini-BENCH]系列表示，是各種研發(fā)應(yīng)用的理想選擇
| 真空置換爐 | 最高2000°C |
|---|---|
| 還原氣氛爐 | 最高2000°C |
我們根據(jù)您的預(yù)算和目的，從最小的配置（加熱器/腔室+控制箱）中為碳爐（真空緊迫性，惰性氣體）和金屬爐（真空質生產力，惰性氣體，還原氣氛）提出最佳系統(tǒng)非常激烈。
內(nèi)徑Φ80mm坩堝內(nèi)試提升行動，Φ1~4英寸晶圓燒成尺寸緊湊，操作方便 溫度快速升至2000°C技術交流！
可廣泛應(yīng)用于SiC和GaN器件的基礎(chǔ)研究交流，新材料和新材料的開發(fā)以及其他先進(jìn)的基礎(chǔ)研究和產(chǎn)品開發(fā)部門。
桌面尺寸小關註，可安裝在實(shí)驗(yàn)室的有限空間內(nèi)溝通協調。
我們可以根據(jù)要求的燒制條件響應(yīng)定制設(shè)計(jì)。
我們將提出適合您預(yù)算的設(shè)備配置提供堅實支撐。
（a） 腔室 + 控制箱 （b） 腔室 + 控制箱+ 真空排氣系統(tǒng)（泵活動、儀表、閥門在此基礎上、真空管道）
*訂購時(shí)請按照說明進(jìn)行操作推進一步。
?要求的設(shè)備配置（上述A或B）探索創新、爐膛加熱范圍尺寸開展、樣品材料問題分析、形狀、燒成溫度條件解決方案、爐氣氛（真空燒制不負眾望、氣體類型）。
| 真空和氣體置換爐（碳爐） | 還原氣氛爐（金屬爐） | |
|---|---|---|
| 最高工作溫度 | 最高2000°C | |
| 加熱器 | 石墨或C/C復(fù)合加熱器 | 鎢加熱器 |
| 絕緣 | 石墨氈材料 | 鎢屏蔽層交流研討，氧化鋁絕緣 |
| 真空室 | SUS304水冷夾套結(jié)構(gòu)推動並實現，頂部裝載，線性驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)開/關(guān)（*Φ3順滑地配合，僅4英寸） | |
| 使用氛圍 | 在真空或惰性氣體（Ar更加完善、N2）中 | 在真空中，惰性氣體（Ar上高質量，N2）精準調控，還原氣體（H2等） |
| 有效加熱范圍 | Φ1“~ Φ4"（用于晶圓片進(jìn)料燒制的平面加熱器），或 -Φ80 x 深度 最大100 （H） mm （圓柱形加熱器） | |
| 極限真空度 | 1x10-2 帕斯卡（* 用于空爐） | |
| 真空泵 | 旋轉(zhuǎn)泵（可選：干泵建設應用、高真空泵） | |
| 熱電偶 | 包括C型熱電偶 | |
| 聯(lián)鎖 | 腔室表面溫度優化程度、加熱器超溫（可選：冷卻水） | |
| 公用設(shè)施和冷卻水 | 加熱器額定值最大 6KVA（* 取決于加熱范圍尺寸），冷卻水 3 升/分鐘 0.4Mpa | |
平面加熱絲（用于晶圓）：C / C復(fù)合材料（或鎢）
圓柱形加熱絲（用于坩堝）：C / C復(fù)合材料（或鎢）
* 根據(jù)加熱范圍的尺寸應用的因素之一，通過組合平面加熱器和圓柱形加熱器基礎，可以在整個(gè)坩堝中均勻加熱。
